溅射镀膜
用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[
二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶,牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。体系抽至高真空后充入
10～1帕的气体（平日为气），在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程.真空镀膜:真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料,包括真空离子蒸发,磁控溅射,对于溅射状涂层,很容易理解目标材料是用电子或高能激光器轰击的,您知道在哪里使用薄膜技术吗？薄膜技术已成为现代社会不可或缺的一部分，在其他活动领域也越来越广泛。薄膜技术可以实现顾客的理念，并且给世界带来新的价值。
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